2023年尖端科技，芯片是业内外认识避不开的话题。而光刻胶是芯片八大核心材料之一。据统计，光刻胶在半导体晶圆制造材料价值占比5%，光刻胶辅助材料占比7%，二者合计占比12%，光刻胶及辅助材料是继硅片、电子特气和光掩模之后的第四大半导体材料。

光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。光刻胶由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。

光刻胶的应用领域有：平板显示器、LED加工、印制电路板、微机电领域、制作各种光栅、光子晶体等微纳光学元件等。

以印制电路板为例。印制电路板（printed circuit board，PCB）的制造90%以上使用光刻胶光刻制造，所用材料为抗蚀油墨。

光刻出的电路图案越精密，就代表着芯片的性能越好。

光刻胶是国家间技术壁垒最高的电子化学品之一。我国国产光刻胶正处于由中低端向中高端过渡阶段。目前国内光刻胶仍主要集中在 PCB 光刻胶、TFT-LCD 光刻胶等产品，在 OLED 显示面板和集成电路用光刻胶等高端产品仍需大量进口。早在几年前北京志盛威华就开始了光刻胶技术的科研工作，据悉目前志盛威华光刻胶技术已有重大突破，现在正处于小试阶段，在完成小试后该涂料将在2025年推出，韩布兴院士曾赞扬志盛威华此项科研是中国摆脱“卡脖子”的重要成果。